品名 | 敘述 | 詢價 |
---|---|---|
環戊酮 | 用作光刻膠及其他應用的溶劑。 | |
丙酮 | 常用於清潔和剝離光刻膠。 | |
四甲基氫氧化銨溶液 (TMAH) | 用於光刻中的光刻膠顯影劑,並作為矽的蝕刻劑。 | |
氫氧化鈉溶液 (NaOH) | 用於清潔和蝕刻。 | |
氫氧化鉀溶液 (KOH) | 用於矽的異向性蝕刻以創建微結構。 | |
氫氧化銨 (NH4OH) | 用於清潔過程中去除有機和無機污染物。 | |
硫酸 (H2SO4) | 常與過氧化氫結合用於晶圓清潔,稱為食人魚溶液。 | |
磷酸 (H3PO4) | 用於蝕刻過程,特別是鋁和氮化矽。 | |
硝酸 (HNO3) | 用於氧化和清潔矽表面。 | |
過氧化氫 (H2O2) | 主要蝕刻劑,適用於二氧化矽,用於晶圓清潔和表面準備。 | |
氫氟酸 (HF) | 主要蝕刻劑,適用於二氧化矽,用於晶圓清潔和表面準備。 | |
鹽酸 (HCl) | 用於清潔矽晶圓和去除金屬雜質。 |