高純度大宗化學品

高純度大宗化學品

品名 敘述 詢價
環戊酮 用作光刻膠及其他應用的溶劑。
丙酮 常用於清潔和剝離光刻膠。
四甲基氫氧化銨溶液 (TMAH) 用於光刻中的光刻膠顯影劑,並作為矽的蝕刻劑。
氫氧化鈉溶液 (NaOH) 用於清潔和蝕刻。
氫氧化鉀溶液 (KOH) 用於矽的異向性蝕刻以創建微結構。
氫氧化銨 (NH4OH) 用於清潔過程中去除有機和無機污染物。
硫酸 (H2SO4) 常與過氧化氫結合用於晶圓清潔,稱為食人魚溶液。
磷酸 (H3PO4) 用於蝕刻過程,特別是鋁和氮化矽。
硝酸 (HNO3) 用於氧化和清潔矽表面。
過氧化氫 (H2O2) 主要蝕刻劑,適用於二氧化矽,用於晶圓清潔和表面準備。
氫氟酸 (HF) 主要蝕刻劑,適用於二氧化矽,用於晶圓清潔和表面準備。
鹽酸 (HCl) 用於清潔矽晶圓和去除金屬雜質。