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高純度大宗化學品
高純度大宗化學品
| 品名 | 敘述 | 詢價 |
|---|---|---|
| 丙二醇甲醚醋酸酯 (PGMEA) | 光刻中常用的光刻膠及其他材料的溶劑。 | |
| 丙二醇甲醚 (PGME) | 用於光刻中的光刻膠和塗層溶劑。 | |
| N-甲基-2-吡咯烷酮 (NMP) | 用於剝離光刻膠和清潔的溶劑。 | |
| 單乙醇胺 (MEA) | 用於清潔溶液和去除光刻膠。 | |
| 甲醇 | 用於清潔和各種過程中的溶劑。 | |
| 二甲基亞砜 (DMSO) | 用作各種有機化合物和清潔過程的溶劑。 | |
| 己內酮 | 用於製造光刻膠和清潔的溶劑。 | |
| γ-丁內酯 (GBL) | 用於光刻和清潔的溶劑。 | |
| 丁二醇 (BDG) | 用作溶劑和清潔用途。 | |
| 氫氟酸 (HF) | 主要蝕刻劑，適用於二氧化矽，用於晶圓清潔和表面準備。 | |
| 鹽酸 (HCl) | 用於清潔矽晶圓和去除金屬雜質。 | |
| Ammonium Fluoride (NH4F) | 用於二氧化矽 (SiO2) 和矽酸鹽材料的蝕刻過程。 |